薄膜蒸留
熱に弱い化合物の蒸留精製に最適
重合、分解のおそれのモノマーの精製、脱気や脱色、脱臭目的で微量の低沸成分除去や高沸成分除去目的に蒸留します。 また高真空/熱媒加熱が可能なため高沸点化合物の精製にも適しております。
基本情報
○蒸発面積0.1平方メートル：20L/日処理 Glass製 到達真空度10×10-4Pa 1基 ○蒸発面積0.2平方メートル：200L/日処理 Sus316L製 到達真空度10×10-1Pa 1基
価格帯
納期
用途／実績例
化粧品原料や医薬中間体、モノマーの精製に適しております。
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取り扱い会社
「夢をカタチにするお手伝い」 弊社にご相談いただく不純物除去はさまざま。 皆さん真剣に熱意を持ち、何としてでも製品化したいとご相談にいらっしゃいます。 我々はボトルネックとなっている問題を蒸留で解決していき、皆さまのお手伝いを致します。 他では扱いづらい高沸点物、高融点物の蒸留精製を得意とし、電子材料や半導体材料向けに精製することも多くなってきています。 また、時間のかかる蒸留が律速になって、製造効率をあげ辛くキャパ不足に陥っていませんか？ 蒸留工程を外注することで反応工程のキャパシティーを上げることも見えてくると思います。 あらゆる蒸留に関するご相談をお気軽にご相談ください。
