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PECプロセス装置

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PECプロセス装置

シンプル構造で低価格を実現！GaNウェハ低ダメージエッチング装置をご紹介

当社が取り扱う『PECプロセス装置』をご紹介します。 光源・波長はUVA、UVCから選択でき、エッチング溶液加熱により 高速な深堀エッチングが可能。 タッチパネル入力でエッチングリンスをパラメータ設定できます。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■10mm□小片チップからφ6インチウェハ ■GaN 低ダメージエッチングが可能 ■シンプル構造で低価格を実現 ■高速な深堀エッチング可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://www.sanmei.co.jp/1105-2/

基本情報

【仕様】 ■型式：PEC-6 ■エッチング方式 　・Photo-Electro Chemical：光電気化学 ■適応ワーク：□10ｍｍ小片チップ、φ2～6インチ ■UVA光源：超高圧水銀灯315～400nm 15mW/sm2以上 ■UVC光源：プラズマ光源220～320nm 12mW/sm2以上 ■薬液供給：2ノズルエア圧縮方式エッチング液、リンス液 ■外形寸法：1470（H）×650（W）×750（D） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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私たちはこれまで、製紙・パルプ・自動車・自動車部品・半導体・液晶・スマホ等、時代の流れに 敏感に対応しながら、お客様に最適なシステムインテグレーションの提案を行いたいとの思いを 持ち挑み続けてきました。 今後はこの考え方を継承しつつ、人々の生活に必要不可欠な「食品・医薬品・化粧品」の「三品業界」 にも積極参入を進めます。 また、半導体や高機能液晶といった成長が見込まれる分野では装置メーカーとして精密アライメント 露光装置・検査装置やプロセス製造装置の開発と製品作りにも積極的に関わっていきます。

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