三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト（低価格）】

研究開発から、少LOT多品種、量産まで対応する「手動・半自動・全自動」のローコストな露光装置/マスクアライナーをご提案！

最終更新日 2024年11月07日

マニュアル両面マスクアライナー『BA100/160/200』

露光光源照度分布は±5％以内！デスクトップ型と自立型のモデルをラインアップ

最終更新日 2025年07月25日

スプレーコーター

立体レジスト塗布・MEMSデバイス対応！水や低粘度液体から高粘度液体まで微細化

最終更新日 2023年08月03日

ムラビューワー

ナノクラスの微細な変化も見逃さない！半自動で欠陥を判別して可視化することが可能

最終更新日 2023年06月14日

PECプロセス装置

シンプル構造で低価格を実現！GaNウェハ低ダメージエッチング装置をご紹介

最終更新日 2023年03月03日

UVナノインプリントステッパー

2～8インチウェハ対応！デバイス製作に必要な高精度アライメントを備えています！

最終更新日 2023年02月08日

カスタマイズ対応検査装置『SIM 3000』

300mm×300mmサイズなどの大型ワークに対応！カスタマイズ可能なベースモデル

最終更新日 2023年02月06日

ウェハ・エッジビューワー『SIM-2300EG』

録画機能搭載！貼合せ、バックグラインド、トリミングなど様々なウェハに対応

最終更新日 2023年02月06日

量産工程用露光装置『全自動マスクアライナー』

サイズは4inと8inをご用意！〇型□型試料に対応した高い汎用性を有しております

最終更新日 2025年07月25日

半自動露光装置『半自動マスクアライナー』

4inと8inサイズをご用意！アライメント露光が可能な多品種量産用半自動露光装置！

最終更新日 2025年07月25日

露光装置　※MEMS等両面デバイス開発・製造を支援！

MEMSデバイスの研究開発から少ロット・多品種、量産まで対応可能な露光装置/マスクアライナーをラインアップ！

最終更新日 2025年07月28日