【半導体向け】露光装置で微細化プロセスを支援！
MEMSデバイスから量産まで対応。微細化プロセスをサポート。
半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、微細化技術が不可欠です。微細化プロセスにおいては、高精度な露光技術が求められ、製造プロセスの品質と歩留まりを左右します。露光装置の選定は、製品の信頼性向上、歩留まり改善に繋がります。当社露光装置は、MEMSデバイスの研究開発から少ロット・多品種、量産まで対応し、お客様の微細化プロセスを強力にサポートします。 【活用シーン】 ・MEMSデバイス製造 ・半導体ウェーハへのパターン露光 ・微細加工プロセス 【導入の効果】 ・高精度な露光による歩留まり向上 ・多様なデバイスへの対応 ・ローコストでの量産体制構築
基本情報
【特長】 ・高倍率ズーム顕微鏡を備えた手動式露光装置 ・片面、両面、両面同時露光に対応 ・自動ギャップ調整、自動コンタクト露光による量産性向上 ・C to C 自動搬送による効率化 ・丸形、角形試料など、各種デバイスへ露光可能 【当社の強み】 お客様のニーズに最適なソリューションをオーダーメイドでご提供します。半導体や高機能液晶といった成長が見込まれる分野では装置メーカーとして精密アライメント露光装置・検査装置やプロセス製造装置の開発と製品作りにも積極的に関わっています。
価格帯
納期
型番・ブランド名
マスクアライナーシリーズ【手動・半自動・全自動露光機】
用途／実績例
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
