光電融合デバイスの特性評価に最適なソリューション特集

SiPh/PIC開発を加速させる評価ソリューション

本製品群は、シリコンフォトニクス(SiPh)やフォトニック集積回路(PIC)などの開発における特性評価と不具合解析を、高速かつ高精度に実現する測定ソリューションです。光電融合デバイス開発において重要なのは、「測定結果をいかに迅速に開発へフィードバックできるか」ということです。各種光学特性を正確に評価し、課題を素早く特定することで、開発効率の向上に貢献します。 WDL特性やPDL特性だけでなく、OFDR技術を利用することによりデバイス内部の反射位置を測定し、損失発生箇所を特定することも可能です。

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基本情報

各測定ソリューションに必要な機器例 1.挿入損失 (IL)/波長依存損失 (WDL)/偏波依存損失 (PDL)測定・波長可変光源 TSL-775 or TSL-570 ・偏光制御ユニット PCU-110 ・マルチポート光パワーメータ MPM-220 2.反射点/導波路伝搬損失測定・波長可変光源 TSL-775 or TSL-570 ・波長掃引フォトニクスアナライザ SPA-110 　詳細はこちら "https://youtu.be/tNUDoUE6300?si=9oP0MdVVeY9O_GeK" 3.多ポート測定 (1)１x N デバイス・波長可変光源 TSL-775 or TSL-570 ・マルチポート光パワーメータ MPM-220 (2)N x M デバイス・安定化光源 SLS-200 ・光スイッチ OSX-100 ・マルチポート光パワーメータOPM-200 4.ROADMネットワークのエミュレーション・光フィルタ OTF-980 or WSS-2000

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型番・ブランド名

TSL-570/MPM-220/SPA-110/OTF-980/WSS-2000/OSX-100/OPM-200/SLS-200

用途／実績例

本ソリューションは、研究開発/設計検証/製造用途として幅広く活用されています。・SiPhチップや有機デバイスの導波路内部構造解析・SiPhリング共振器のQ値評価・カプラやフィルタのWDL/PDL/波形評価や試験　・WSS等の多チャンネル同時測定 (同一条件下での一括測定により、設計ばらつきを高精度に評価可能) など

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波長可変光源『TSL-570』

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波長可変光源『TSL-570』

波長可変レーザ(高出力+20dBm)『TSL-570(TYPE H)』

波長可変レーザ(高出力 +25dBm)『TSL-570(TYPE U)』

波長可変レーザ(フラッグシップモデル)『TSL-775』

マルチポート光パワーメータ『MPM-220』

波長掃引型フォトニクスアナライザ『SPA-110』

波長可変フィルタ『OTF-980』

LCOSベースのプログラマブル光フィルタ：WSS-2000

光スイッチ『OSX-100』

光パワーメータ『OPM-200』

安定化光源『SLS-200』

レーザサーボコントローラ『LLP-100』

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