フォトマスク

フォトマスク
透明な基材上に光の透過部と遮光部とでパターン形成しており、主にフォトリソグラフィと呼ばれる露光転写技術に用いられます。当社では主に「クロムガラスマスク」「エマルジョンガラスマスク」「フィルムマスク」の3種をラインアップしております。
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フォトマスク(半導体・電子部品・プリント基板・LCD等向け)
CAD設計からマスク製造まで行う一貫生産体制で高品質なフォトマスクをご提供いたします!
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『クロムマスク』電子部品向け(半導体・液晶パネル)フォトマスク
高精度な意匠成形を実現!優れた耐久性と微細性で、半導体チップや基板実装、各種パッケージ成形に好適。
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Crガラスマスクの『静電破壊』にお困りではありませんか?
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電子部品向けフォトマスク『表面コーティング』
コーティングによる長寿命化でコストメリット創出!半導体マスクのことなら竹田東京プロセスサービスへ。
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課題解決事例でよくわかる【竹田東プロのCAD・CAM設計】
CAD/CAM設計、お任せください!お客様のニーズに合わせ様々な設計ツールを活用!
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【技術資料】マイクロブラスト加工の基本&ガラスマスクへの活用事例
ガラス、シリコン、セラミック、各種金属へ高精度な微細加工を実現するマイクロブラスト加工。ガラスマスクへの活用例をおまとめ
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よくわかる!ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基礎
<半導体関連マスク‐基本資料公開>部署異動や転職で、はじめて各種マスクを扱われる方必見!マスクの構造や種類、製造方法を詳しく解説
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【課題解決資料】フォトマスクのお悩みを解決する表面加工
<加工サンプル無料貸出対応>フォトマスク清掃に時間がかかる…CCDカメラの視認性が悪い…等、よくあるお困りごとを表面加工で解決!
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