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【Lechler及びSonosys】(事例)半導体製造装置向けレヒラー社及びソノシス社製スプレーノズル【精密スプレーノズル及び超音波スプレーノズル】(改善/改良) 0016

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半導体洗浄装置には様々なスプレーノズルが必要です。 ウエハーの洗浄に品質低下を起こさない為にも高効率洗浄が必要です。 また、使用する液体(純水や薬液)で洗浄する場合では、精密スプレーノズルが必要となります。 スプレーノズルが多く使用されています。 また、一般的な加圧スプレーノズルの他に、超音波(メガソニックやウルトラソニック)を使用しての洗浄も昨今では増えてきています。 今回は事例を交えたレヒラー社製精密スプレーノズルとソノシス社製超音波スプレーノズルを使用した事例となっております。 両社とも名だたる半導体装置メーカーに数多くの実績が御座います。 是非一度、ご検討頂ければ幸いです。

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