ティックコーポレーション株式会社 本社 公式サイト

ティックコーポレーション株式会社は、2026年11月25日（水）～27日（金）に東京ビッグサイトで開催される「POWTEX 2026（粉体工業展）」に出展いたします。 POWTEX 2026で展示する主な製品 ■ DryMaster｜スプレードライ工程のメンテナンス性を向上 ■ タンク洗浄ノズル｜CIP・容器洗浄の効率化と自動化 ■ ダクト洗浄ノズル｜粉体付着・堆積物の洗浄を効率化 ■ TankCleanソフト｜タンク洗浄ノズルの配置・選定をシミュレーション このような課題をお持ちの方におすすめです。 ・スプレードライ工程のメンテナンス時間を短縮したい ・スプレードライヤーの設備稼働率を高めたい ・タンク洗浄やCIP工程を自動化したい ・タンク洗浄に使用する水や薬液を削減したい ・タンク洗浄ノズルの選定や配置を見直したい ・ダクトや配管内部の粉体付着を効率的に洗浄したい 展示会名： POWTEX 2026（粉体工業展） 会場： 東京ビッグサイト 会期： 2026年11月25日（水）～27日（金） 時間： 9:30～17:00 ブース番号： 1-D19

このたび、ドイツ SONOSYS（ソノシス）社製メガソニック洗浄装置の製品リーフレットを最新版に更新いたしました。 SONOSYS社のメガソニック洗浄技術は、高周波の超音波エネルギーを純水（DI Water）などの液体を介して対象物表面へ伝達し、微細なパーティクルを効率的に除去する非接触型の精密洗浄技術です。 特に、半導体ウエハー、フォトマスク、MEMS、各種基板、光学部品など、微細構造を持つ製品の精密洗浄に適しており、半導体製造工程をはじめ、高い清浄度が求められるさまざまな分野で活用されています。 SONOSYS社では、用途や除去対象となるパーティクルに応じて複数の周波数をラインアップしているほか、Single Nozzle、Dual Nozzle、Triple Nozzleなど、多様な洗浄条件に対応するメガソニックノズルシステムを展開しています。 「ウエハーの微細パーティクルを除去したい」「フォトマスクやMEMSをダメージを抑えながら洗浄したい」「既存の洗浄工程を見直したい」といった課題をお持ちのお客様は、ぜひ最新版リーフレットをご覧ください。

このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。

ソニア社製超音波スプレーノズルの3D CADデータ配布を開始しました。 設計者や装置メーカーの皆様は、製品形状や取付寸法を事前に確認できるため、装置設計やレイアウト検討を効率的に進めることができます。 今回、超音波スプレーノズル「WS40K」と「WS130K」の3D CADデータも公開し、導入前の干渉確認や設計シミュレーションに活用いただけます。 ソニアの超音波スプレーノズルは、精密コーティング、表面処理、加湿、洗浄など幅広い用途に対応。 3D CADデータの提供により、設計工数の削減と開発期間の短縮を支援し、製品選定から装置開発までをスムーズにサポートします。

日頃より格別のご愛顧を賜り、誠にありがとうございます。 夏季休暇に伴いまして、誠に勝手ながら下記日程の出荷対応を一時停止させていただきます。 – 夏季休暇：8月10日(月)～8月14日(金) ※8/17(月)より通常通り営業、出荷対応いたします。 大変ご迷惑をお掛け致しますが、ご理解の程お願い申し上げます。