薬液漏れを非接触で検知する漏液検知アルゴリズム
半導体製造装置の薬液漏れを早期発見。 設備停止リスク低減と安定稼働を支援します。
半導体製造工程における薬液漏れは、生産停止や設備復旧につながるリスクの一つです。 被害を最小限に抑えるためには漏液の早期発見が重要であり、設備保全・予防保全に向けた継続的な監視が求められています。 ■このような課題はありませんか？ ・半導体製造装置の薬液漏れを早期発見したい ・薬液漏れによる設備停止を防ぎたい ・配管や継手からの微小な漏れを把握したい ・漏液監視を自動化したい その課題、Liquidseekerが解決します！ ■Liquidseekerの特長 ・非接触で漏液監視 ・水・薬液・油を識別して検知 ・微小な漏液も検知 ・最大3m離れた位置から検知 Liquidseekerは、SWIR（短波長赤外）技術を活用した漏液検知アルゴリズムです。 本製品を、対応するSWIR ToFカメラへ組み込むことで、半導体製造装置で使用される薬液や水、油などの漏液を非接触で検知できます。 わずかな漏液も検出できるため、薬液漏れによる装置停止や品質不良のリスク低減に貢献します。
基本情報
■漏液検知アルゴリズム Liquidseeker（リキッドシーカー）とは 本製品は、SWIR※(短波長赤外)の波長帯を利用し、非接触での液体検知を実現するアルゴリズム（ソフトウェアIP）です。 本IPを適用条件を満たしたToFカメラに組込むことにより液体の漏れやにじみ、水分を含んだ粒子を検知がすることが可能になります。 ※SWIR（スワイア：短波長赤外）とは、一般的に0.9μm（=900nm）から2.5μm（=2、500nm）の波長帯をいいます。 ■漏水検知の原理 Liquidseekerは、特定の波長光で水が光を吸収する原理を利用し検知を行っています。 本IPと適用条件を満たしたToFカメラを組合わせることにより非接触で広い面積を検知できることから、 従来の課題解決に加えて、点検作業の効率化にも寄与します。 ■検出可能な液体の例 有機溶剤：イソプロピルアルコール、トルエン、酢酸エチル、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン 酸：硫酸、酢酸、フッ酸、塩酸、過酸化水素 油：重油、軽油、タービン油、シリコン油 ※複数の液体を同時に検出可能です
価格情報
ご質問・見積もりなどお気軽にお問い合わせください。 当社の製品・サービスは企業・団体・法人様向けに販売しております。
納期
用途／実績例
■主な用途 ・半導体製造装置の漏液監視 薬液漏れによる装置停止リスク低減 ・データセンター設備監視 漏水によるシステム障害の予防 ・工場設備監視 配管・バルブ・ポンプ設備の漏液監視 ・化学プラント 薬品漏れの早期発見 ・インフラ設備 設備保全・予防保全用途
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