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低温反応制御システム　冷やせる温度域：常温～－120℃

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低温反応制御システム　冷やせる温度域：常温～－120℃

液化窒素の冷熱を利用して、 製薬合成等の化学合成環境を低温に保持するシステムです。その最低温度は、－120℃まで対応可能です。

液体窒素の冷熱（-１９６℃）を利用し、低温環境を実現します。 主に、原薬・中間体の低温合成プロセスで使用されます。 冷熱を利用する方法として、大きく分類すると、「間接冷却式」と「直接冷却式」の２種類がございます。 低温合成、低温反応、反応熱除去、暴走反応防止などにお使いいただいています。 プラントスケールからラボスケールまでお客様のニーズに合わせて幅広く対応します。 納入実績国内No.1 数多くの製薬メーカー殿や化学メーカー殿に納入実績あり GMP対応も行っております。 ●低温反応制御システムの詳細は、カタログダウンロードよりご覧下さい

関連リンク - https://www.tn-sanso.co.jp/jp/business/product/lis…

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