TruPlasma Highpulse 4000（G2）シリーズ
数マイクロ秒でのフォーミング、長年にわたる耐久性！当社の電力供給装置をご紹介
『TruPlasma Highpulse 4000（G2）シリーズ』は、高出力インパルス マグネトロンスパッタリング向けに専用設計された電力供給装置です。 硬く均質で滑らかなコーティングは、機能的にも装飾的にも好適。 当製品が生み出す独特なイオン特性は、金属イオンエッチング （スパッタリング前処理）や半導体用途（トレンチ充填）にも 利用できます。 【主な利点】 ■飛沫フリーのスパッタリング、薄膜の不具合の低減 ■コンパクトな寸法、容易なシステム統合 ■既存の陰極およびプロセス要件に簡単に適応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
