ALD（原子層堆積）装置
2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現 弊社の熱ソリューションを集約し最適な温度管理を実現
基本情報
【オプション例】 ・プロセス排気用除外設備 ・マニュアルハンドリングから自動搬送システムまで対応 ・不活性ガス用ピュリファイア ・プリカーサボトルサイズの選択 ・お客様の仕様にあわせカスタマイズ化 ・低価格のＡＬＤ装置仕様っもご用意 【装置概要】 ・到達圧力（プロセス時）：≦7Pa ・成膜温度：400℃（600℃対応ヒータ開発中） ・基本構成サイズ：2160×890×1940ｍｍ プリカーサ本数：最大５本 【成膜応用事例】 Al₂O₃ TiO₂ HfO₂ ZrO₂ SiO2 Ta2O5 TiN Sin 他膜種も対応致します。 【ALD受託成膜サービス】 弊社、相模原事業部内のALD成膜装置を使用し、受託成膜を行っております。ご要望のプリカーサによる成膜をお手伝いさせていただきます。お客様立ち合いによるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータによる比較評価等、あらゆるニーズにお応えします。 成膜後の評価業務にもお応えいたします。 定期的な少量Lotでの受託生産にも応じますのでお気軽にお問合せください。
価格帯
納期
用途／実績例
各種、受託成膜 各種カスタマイズによりお客様の要望に合わせ成膜装置をご提供いたします 研究機関等に導入実績あり
