AR膜欠陥検査装置『EX2001S』
水平FFU搭載！高速クリーン検査可能！コンパクト設計のAR膜欠陥検査装置
基本情報
【性能】 ■通常モード：5倍、分解能2.8μm、検査面/幅 3mm×80mm/sec+α ■高速モード：10倍、分解能1.4μm、検査面/幅 1.5mm×40mm/sec+α ■その他、マーキング機能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格情報
納期
用途／実績例
【用途】 ■ガラス基板の反射防止膜 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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取り扱い会社
弊社は1986年の会社創設以来、長らく日本の最先端の技術を支える半導体付帯事業を展開してまいりました。ハード面 ではクリーンルームをはじめとする、工事製造環境の整備。また、人的要素では半導体技術者の育成ならびにお客様のニーズに即応できるサービス体制の確立に主眼をおいてまいりました。そして昨年は、SEMICON Japanに初出展を果たし多くの 業界関係者と直接触れ合うことで、今何を必要とされているのか、いかなるサービスを創出すべきなのかを改めて学ぶことができました。また、同時に社内の志気も高まっきており積極的な営業活動を実施しております。日本経済の景気もようやく上昇志向となってきたと言われております。しかし、半導体業界だけを見ても海外メーカーの進出、技術力、サービスの向上は著しいものとなっておりますので国際競争力を高めることを念頭に営業展開をしていきたいと考えております。国内はもとより、グローバル化時代に対応して北米とアジアを結ぶ拠点として我が日本そして、空港アクセスに優れている当社の担う役割はさらに高まっていきます。
