真空成膜装置(スパッタ装置・蒸着装置)
大面積へのスパッタが可能！冷却なしでもフィルムへの成膜ができます
当社で取り扱う「真空成膜装置」についてご紹介いたします。 対向する2個のターゲット間にArプラズマを閉じ込め、閉じ込められた Arプラズマがターゲットをはじき出してターゲットに対し90度の位置に 配された基板にターゲット材が成膜。 また、緩やかに変化する磁場において磁気モーメントが保存されること により、磁場に平行な成分の運動エネルギー＋磁場に垂直な成分の 運動エネルギー＝一定となり、磁極の両端で荷電粒子が跳ね返されます。 【特長】 ■低温成膜 ■高真空スパッタ ■独自のスパッタ技術(膜の組成制御・均一なプラズマ) ■独自のマグネトロンカソード ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【活用メリット】 ■冷却なしでもフィルムへの成膜が可能 ■ち密な膜 ■安定した反応性スパッタ(組成制御) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【このようなお客様に】 ■薄膜製造各社 ■樹脂フィルムへの薄膜製造会社 ■研究所など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
