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【9/4】半導体洗浄技術と洗浄剤の設計、 パーティクル除去、ウエハ表面の評価

株式会社技術情報協会

■　講　師 １． 反応装置工学ラボラトリ 代表 博士（工学）羽深 等 氏 ２． 三菱ケミカル(株) Science＆Innovation Center 主席研究員 竹下 寛 氏 ３． (株)SCREENセミコンダクターソリューションズ 洗浄開発統轄部 開発戦略部 開発戦略課 プロセス戦略リーダー 岩畑 翔太 氏 ■　開催要領 日　時 ： ２０２３年９月４日(月） １０：３０～１６：３０ 会　場 ： Zoomを利用したLive配信　※会場での講義は行いません Live配信セミナーの接続確認・受講手順は「こちら」をご確認下さい。 聴講料 ： 1名につき６０，５００円（消費税込、資料付） 〔１社２名以上同時申込の場合のみ１名につき５５，０００円〕 〔大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくは上部の「アカデミック価格」をご覧下さい〕 ※定員になり次第、お申込みは締切となります。