CMP後洗浄液『CMPシリーズ』
金属不純物やパーティクルの除去性に優れた各種CMP後洗浄液
基本情報
■Cu-CMP, W-CMP向け ・ CMP-M02 ■W-CMP向け ・ CMP-M200シリーズ ■Cu-CMP向け ・ CMP-B200シリーズ ■絶縁膜-CMP向け ・ CMP-B300シリーズ ■Co-CMP向け ・ CMP-MLシリーズ ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
型番・ブランド名
CMPシリーズ
用途／実績例
＜適用分野・使用用途例＞ ＊メモリー、ロジックデバイス、フォトマスクなど ＊Cu-CMP、W-CMP、Co-CMP、絶縁膜-CMPの後洗浄など
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取り扱い会社
私達は先端規格をクリアするだけでなく、それ以上の水準の高純度試薬を開発・製造するオンリーワンメーカーであることを目指してきました。 また、試薬だけでなく、半導体製造プロセス用の超高純度薬品の規格も、世界に先駆け私達が制定し、現在では世界中の半導体産業に不可欠な機能性薬品においてトップシェアを獲得しています。
