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大基板(パネルレベル・角基板)現像装置

現像処理からリンス、スピン乾燥までの一連のプロセスを自動で実行!

当社で取り扱っている「大基板(パネルレベル・角基板)現像装置」 についてご紹介いたします。 ロードポートにFOUPまたは専用カセットをセットするだけで、 クリーンロボットがワークを搬送し、現像処理、リンス、 スピン乾燥までの一連のプロセスを自動で行います。 手動現像装置の製作も対応可能です。 ワークサイズは300x300mm、510x515mm、600x600mmに対応。 ワーク材質はSi、樹脂、ガラス、SUS板等に対応しており、 現像液供給ユニットの装置内蔵化(キャニスターまたはポリタンク) が可能です。 【仕様(一部)】 ■現像液:TMAH、Na2CO3、シクロペンタンほか(チャンバー独立) ■リンス液:DIW、PGMEAほか ■バックリンス:PGMEAほか ■塗布方法:シャワーまたはノズル ■ベーク:90℃~120℃士1℃ ■クールプレート:10℃~25℃ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

関連リンク - https://www.longcoop.com/

基本情報

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大基板(パネルレベル・角基板)現像装置

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株式会社LCは、半導体製造装置メーカーです。 半導体をはじめ、MEMS、化合物等、幅広い分野の ウェットプロセス処理で豊富な経験があり、ユーザーの ニーズに合わせた適切なカスタム装置を提供。 薬液供給装置など各種付帯設備のほか、ダイボンダーを始め、 検査機と光学システムの設計・製造も対応可能です。