光化合物半導体 プラズマ加工装置
半導体故障解析用プラズマ・エッチング装置
イオンビーム エッチング・成膜装置
熱処理
スパッタリング成膜装置
ソリューション
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プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』
パルス機能を利用!ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能
最終更新日 2024年09月04日