プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』
パルス機能を利用！ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能
『KOBUS F.A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。 パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition：原子層堆積)と 同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。 プロセス温度は80℃～500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は 0.1nm/min～500nm/minとなっております。 【仕様】 ■プロセス温度：80℃～500℃ ■ウエハサイズ：150mm、200mm ■成膜速度：0.1nm/min～500nm/min ■アスペクト比 ・20：1 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
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価格帯
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用途／実績例
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この製品に関するニュース（2）
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TFE社製スパッタ装置ーダウン/サイド・スパッタ構造で幅広いアプリケーションに対応
イタリア ミラノの郊外、ナビスコに拠点を置く、TFEーThin Film Equipment Srl.は、薄膜形成装置の設計・製造を40年近く、色々な分野に 薄膜形成装置を提供してきました。 例えば、温度50度程度の低温での薄膜形成は、プラスティック製品の コーティングを可能とし、トレー方式のサンプルトレーは、大小サイズの 異なる圧電素子の電極形成や、形状が異なる対象物の装飾コーティング、 保護膜形成コーティングを可能にします。 医療製品、センサー、プローブカードなど色々な用途にご使用いただけます。 デモも可能で、カスタマイズにも対応しており、製品立ち上げから メンテナンスは、プラズマ・サーモ・ジャパンが日本語で 対応させていただきます。
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ECLIPSE 各種アップグレードのサービス開始しました
この度、ECLIPSE Star/Mark II/Mark IV の各種アップグレードの サービスを開始致しました。 詳細につきましては、アップグレード表を ダウンロードした上で、ご確認ください。
取り扱い会社
当社は、プラズマ技術を応用したエッチング、成膜、切断装置に加え、 ICP, RIE, DSE, IBE, IBD, PECVD, HDPCVD, HDRF F.A.S.T.-ALD装置の販売、 並びに、当該装置に関するカスタマーサービスの提供しております。 米国フロリダ州に本社を構える、Plasma-Therm LLCは、1974年に設立。 設立以来、48年間プラズマ技術を応用した半導体製造装置の製造・販売を 行っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en
