ウェハバンプ用ギ酸還元真空リフロー炉『MPWシリーズ』
独自の赤外線加熱ヒーターとウェハステージを採用。ウェハ面内の均一性と高スループットを両立。高品質なはんだバンプ形成・接合に貢献
ウェハバンプ用ギ酸還元真空リフロー炉『MPWシリーズ』は、 ギ酸還元と真空熱処理により、低温でも低ボイドや形状安定性に 優れた高品質なバンプ形成・接合プロセスを実現しています。 独自の赤外線加熱ヒーターと冷却機能を備えたウェハステージにより、 安定した温度制御性と高スループットを両立し、フラックスフリーにより洗浄工程の削減にも貢献。 加熱から冷却までを1台の処理チャンバーで完結し、処理能力に応じて 複数チャンバー構成を選択できるほか、排気されるギ酸ガスは装置内の 分解処理ユニットで無害化し、作業環境の安全性にも配慮しています。 【特長】 ■高い還元作用を持つギ酸を還元ガスとして使用 ■排気されるギ酸ガスを装置内の分解処理機能で無害化 ■加熱から冷却までを1チャンバーで完結し、コンパクトな構成が可能 ■フラックス洗浄工程が不要なため、工程削減に寄与 ■半導体パッケージ、光半導体、パワー半導体関連の現場で活用可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
基本情報
【こんなお悩みに】 ・低い処理温度でも低ボイドや形状安定性に配慮したはんだ処理を行いたい ・ウェハ処理温度の安定性と高スループットを両立したい ・フラックス洗浄工程を削減して製造工程を簡略化したい ・フラックス残渣による品質リスクを抑えたい ・バンプの微細化に伴うフラックス残渣等の影響を解決したい ・ギ酸ガスを使用する工程で作業環境の安全性に配慮したい ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
価格帯
納期
用途／実績例
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