デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜の作製も可能

『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。【特長】 ■研究開発向けのデスクトップサイズ ■試料サイズ：最大φ2インチ ■膜厚センサー追加可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

基本情報

【製品仕様】スパッタ方式：RFマグネトロンスパッタ方式カソード：φ2インチ×3源/水冷式スパッタアップスパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度：10^-4 Pa台寸法：　SVC-700RFIII(制御ユニット)：W370×D310×H195mm 　RF CONTROL UNIT：W370×D310×H158mm 　チャンバーユニット：W370×D540×H400mm 所要電源：AC100V 50/60Hz 15A 1系統 3pinプラグ ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

価格帯

500万円 ~ 1000万円

納期

応相談

用途／実績例

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「デスクトップRFスパッタ装置　SVC-700RFIII」カタログ

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