研究・開発実験用 RFスパッタ装置
実験目的にあわせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置
基本情報
☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜生成に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT ＜実験目的にあわせたカスタマイズ!!＞ 1．試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2．カソードサイズは2〜6インチに対応 3．2インチカソードタイプは3源式にも対応 ＝ 薄膜の積層を実現 4．多彩なオプションをご用意 基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc.
価格情報
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納期
型番・ブランド名
SVC-700RFシリーズ
用途／実績例
各種用途における絶縁薄膜/酸化薄膜生成
ラインアップ（3）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| SVC-700RFI | 2インチカソード(デポダウン)専用 ベンチトップタイプ小型RFスパッタ装置 |
| SVC-700RFII Type-I | 2～4インチカソード対応(1源) ※2インチは3源式対応 研究開発用RFスパッタ装置(出力300W) |
| SVC-700RFII Type-II | 6インチカソード対応モデル 研究開発用RFスパッタ装置(出力300W) |
取り扱い会社
経営理念は、「コア技術で研究開発の未来を切り拓く」こと。 研究／開発に携わる方々が、実験において必要とするものを必要なときに提供させていただくことをモットーとし、“装置の機能拡張性を高める”とともに、“多彩なオプション”をご用意しております。 また、“フットワークの軽さ”を武器に、お客様の様々なニーズにお応えできるよう、日々努めております。
