Semi Next株式会社 本社、三重事業所 公式サイト

単一チャネルの高電圧半導体パルス発生ユニットであり、調整可能な高精度・高電圧のパルス信号を出力することができます。 ・高電圧レンジ ±40Vの出力に対応し、NVM（不揮発性メモリ）テストの技術条件を満たします。 ・高速スルーレート対応の高電圧 1000V/μsの高速スルーレートを実現する高電圧パルスソースにより、より鋭いエッジの生成が可能です。 ・PXIeインターフェース PXIeインターフェース設計に基づき、標準PXIeシャーシに適合可能。マルチチャネル拡張が容易で、他のPXIe計測機器とのシャーシ共有にも対応し、利便性の高い半導体テストシステムを構築可能です。 ・多レベルパルス出力 2レベルや3レベルのパルス出力に対応し、複数パルスの組み合わせを実現。半導体テストにおける多段階パルスのニーズに応えます。 ・ALWG機能 CSVベースでのユーザーによるテキスト編集に対応し、任意のリニア波形信号を出力可能です。 ・ソフトウェア機能 GUIは非常に直感的かつ簡潔に設計されており、各チャネルの出力電圧波形設定を簡単に構成できます。

・±40Vの出力に対応し、NVMテストをサポート ・カスタム波形に対応しており、SPGUアプリケーションの設定が簡単に ・周波数範囲：0.1～33MHz

本製品は、超高速パルスソースメジャーユニットとして、ナローパルス幅、高速立ち上がりエッジ、および高精度なパルス出力・測定機能を兼ね備えており、各種半導体デバイスの厳しい試験条件にも対応可能です。 主な用途としては、【中出力パワーデバイス（MOSFET、IGBT等）】の瞬時動作評価、不揮発性メモリ（NVM）の書き込み・消去サイクル試験、そしてMEMSデバイスにおけるアクチュエーション特性の評価などが挙げられます。 立ち上がり時間の厳しい応答性試験や、パルス電圧の精密制御が求められるアプリケーションに最適であり、研究開発から製造ラインの工程評価まで、幅広い分野で活用されています。