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オゾン水でレジスト剥離！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】半自動装置

【取扱製品】 ■BATCHSPRAY Clean Autoload ■BATCHSPRAY Acid Autoload ■BATCHSPRAY Solvent Autoload ■BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload ■BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload ■BATCHSPRAY Acid ■BATCHSPRAY Solvent ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

有機溶剤を使わずにドライエッチング後の樹脂残渣を除去！

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オゾンで過酸化水素を置き換え！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】半自動装置

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BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】

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BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式ウェットプロセス装置】半自動装置

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BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】半自動装置

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BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】全自動装置

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BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】全自動装置

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BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減

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BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】

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