測長SEMデータの相関性R²=0.96を実現。広範囲のチップパターンサイズ変化を、画像輝度の変化として定量的に観察。

ウエハ上のパターン寸法のバラツキを、非破壊・超高速にモニタリングする検査モジュールです。 従来、SEM（走査電子顕微鏡）で時間をかけて計測していたパターンサイズの変動を、マクロ画像の輝度情報として可視化します。 露光工程やエッチング工程における「装置固有のムラ」や「経時変化」をリアルタイムで監視可能。 微細化が進む次世代デバイスの歩留まり改善に大きく貢献します。 【技術的特長】 ■測長SEMデータと極めて高い相関（R²=0.964）を確認済み ■チップ内の特定エリアだけでなく、ウエハ全面の分布を一括把握 ■テレセントリシティを最適化した光学系による高精度な観察 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※実機での評価依頼を受付中。1回目のサンプル評価は無償にて承ります。

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