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SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ|半導体・MEMSの精密洗浄

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このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS(ソノシス)社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを公開しました。 SONOSYSのメガソニック洗浄技術は、600kHz~9MHzの高周波エネルギーを利用し、半導体ウェーハ、フォトマスク、MEMSなどの微細構造へのダメージを抑えながら、微細なパーティクルを除去する精密洗浄技術です。 新ページでは、シングル・ダブル・トリプルノズルの特長や、半導体、MEMS、光学部品、LCD・FPD基板などへの用途をご紹介しています。 微細パーティクル除去、超純水(DI Water)を使用した精密洗浄、600kHz・1MHzなどのメガソニック洗浄をご検討の方は、ぜひご覧ください。

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