平板型赤外線加熱炉　IR-FP Series

赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。

「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

関連リンク - http://www.caty-yonekura.co.jp/

基本情報

【基本構成】 ○加熱炉本体 ○試料ホルダー（石英ホルダー、熱電対1式） ○温度コントローラ【オプション】 ○炉内部真空対応 ○ガス冷却機構 ○真空排気系 ○灼熱板 ○冷却水循環装置 ○CCDカメラ及び観察系【主要仕様】 ○温度範囲：RT~1100℃※ ○加熱特性：30℃/秒※ ○加熱方式：赤外線反射集光加熱 ○冷却方式：自然冷却 ○雰囲気：大気、オーバーパージ(オプションにより真空中及びガスフロー中も可能) ○加熱可能範囲：100×100mm～100×200ｍｍ程度、3インチ～6インチ ○温度センサー：K又はR熱電対 ○温度制御：デジタルプログラムPID-SCR制御 ○温度プログラム：99プログラム、99セグメント ○安全対策：炉体水冷、保安措置付き ※加熱対象の熱容量によって変わります。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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この製品に関するニュース（1）

≪加熱炉≫最高1800℃/高速昇降温/温度制御性能[観察動画付]加熱中の観察用だけでなく、加熱炉としても。
- 製品ニュース
集光加熱炉「IRシリーズ」は、世界中の様々な研究機で使用され、カスタマイズにも柔軟に対応します ▼IRシリーズ特徴▼ 急速加熱性能と温度制御の優位性、観察ポートからの情報が加熱実験時間の大幅短縮、最適な加熱条件のスクリーニングなどを容易にし、材料開発業務効率の向上に貢献できます。 ▮急速加熱冷却&温度制御性能集光加熱方式で約50℃/secの昇温性能で、加熱ランプOFFで急冷も可能で、温度制御性能では加熱ランプボリュームの高速PID制御で温度プログラムに対し、温度制御性±1℃以内を実現します。 ▮各種雰囲気への対応すべての炉で真空チャンバー構造を採用しており、ガス置換可能です。高真空下の加熱、不活性ガス、還元雰囲気下、バブリングによる加湿露点制御雰囲気などにも対応しています。 ▮手軽に実験・観察が出来るコンパクト＆省エネのため設置場所を選びません。昇温速度が速いため、事前に炉を温める時間が必要がなく、実験を行いたい時に行うことが出来ます。 ▼その他詳細特徴▼ ・加熱中のリアルタイム観察・クリーン観察動画や、観察画面の遷移例などは、関連リンク内記事にてご確認ください！

2022年08月03日

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取り扱い会社

株式会社米倉製作所

特設サイト公式サイト

電話番号・住所

米倉製作所は、素材研究・開発分野などのお客様の目的や用途、材料試験の規格や試験方法に合わせた試験機、計測装置を開発、設計、製造、サポートまでを、一貫生産体制で提供しています。各種大手メーカーや研究機関から寄せられる要望に応える試験機は、そのほとんどがカスタマイズ製品です。新素材の耐久性を測定する場合は、完全オーダーメイド。設置場所や利⽤者によって変わる“使い勝⼿”にも⽬を向け、お客様それぞれに最適な試験機となるよう調整いたします。

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