半導体材料の純度試験 微量元素分析の前処理装置
スパッタリングターゲット、CMPスラリーなど、微量不純物分析の前処理には適切な酸分解が必要です
基本情報
・横幅：50 cm 高さ：47 cm 奥行：79 cm ・温度：最大300℃ 、 圧力：最大199bar、 出力：最大2000W ・最大サンプル数:28 CMPスラリー：研磨剤、酸化剤（酸化性物質）、キレート剤、腐食抑制剤 スパッタリングターゲット：アルミニウム、銅、ステンレス、タンタル、ニッケル
価格情報
1000万程度（仕様による）
納期
型番・ブランド名
Multiwave 7000 （マルチウェーブ ななせん）
用途／実績例
CMPスラリー：研磨剤、酸化剤（酸化性物質）、キレート剤、腐食抑制剤 スパッタリングターゲット：アルミニウム、銅、ステンレス、タンタル、ニッケル
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取り扱い会社
アントンパールは、機械工だったアントン・パールによって1922年にオーストリア・グラーツで設立されました。 現在、世界110か国以上で約4,500人の社員を擁し、研究・開発・品質管理に使用される分析機器の開発、製造、販売、サポートを世界規模で展開しています。 アントンパール・ジャパンは、Anton Paar GmbHの100％子会社として日本のお客様へアントンパール製品の販売およびサポートを提供しています。 東京（本社）と大阪（大阪営業所）にオフィスとラボを構え、ラボには粘弾性測定装置、密度・比重計、マイクロ波試料前処理装置など、ほぼ全ての装置を展示しています。 専門のアプリケーションスタッフによるサンプル測定やデモンストレーション、ユーザートレーニングなど、幅広い用途でご活用いただけます。
