横型水素アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）
小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセスにもウェハプロセス（合金化や電極アニール）にも対応。
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のＳｉウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温（１０００℃）均一加熱
基本情報
横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム＆大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。 石英管急冷機構を標準装備。短タクト処理を実現。 拡張機能により６インチウェハまで対応。 水素雰囲気還元熱処理に加え高真空アニールや減圧中ガスフロー熱処理等各種モードの処理が可能。 社内実験機で大気圧水素アニールにテスト対応可能。 柔軟なハード対応と細やかなサポートが特長のニッチプロセス用アニール装置。
価格情報
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納期
用途／実績例
化合物半導体アニール 研磨後のＳｉウェハのアニール 誘電体ウェハアニール 電極膜・配線膜アニール
