オゾン水洗浄装置

イオン注入後のレジスト剥離が可能。残渣なし、下地膜（Si、SiO₂ など）を膜べりなしで剥離できます。硫酸過水、アンモニア過水等の薬液洗浄工程をなくすことで、ランニングコストおよび工程数を削除できます。