【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析
半導体産業向け:プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)をモニタリング
水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)は、主に集積回路(IC)、プリント基板(PCB)、フラットパネルディスプレイ(LCD)の製造に用いられる第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。 この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。 現像工程はフォトリソグラフィにおける重要な段階であり、生産効率を上げるためにはこの工程を最適化しなければなりません。このプロセスアプリケーションノートでは、オンラインプロセス滴定により現像液中のTMAH濃度をモニターする方法を紹介します。
基本情報
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価格帯
1000万円 ~ 5000万円
納期
応相談
型番・ブランド名
プロセス分析計
用途/実績例
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取り扱い会社
スイス・ヘリザウに本社を置くメトローム社は、70年以上にわたりイオン分析を中心とした分析機器の開発・製造を行うリーディングカンパニーです。イオンクロマトグラフィー、電位差滴定、カールフィッシャー水分測定、ラマン分光分析など、高精度な測定技術を核とした幅広い製品群を、世界140か国以上のお客様へお届けしています。日本法人であるメトロームジャパン株式会社は、スイス本社で培われた高い技術力と品質を背景に装置の3年保証を実現するとともに、環境、食品、医薬品、半導体、化学など幅広い分野のお客様に対し、販売からアプリケーション相談、導入後のメンテナンス・サービスまで、メーカーならではのきめ細やかなサポート体制で対応しています。




















