【仕様】 ■加熱ゾーン：120mmφ×500mmL ■管サイズ：70mmφ×1000mmL ■使用温度：1200℃ ■雰囲気：不活性ガス、真空、H2などの各種ガス ※上記は代表例となります。加熱ゾーンや管サイズ、昇温速度などはカスタム可能です。 【対応できる計測・付帯機器】 ■ MFC、圧力計、物温熱電対の追加 ■ サンプリングポート、排気分析ラインの設計 ■ バイパスライン、ドレン、凝縮トラップの検討 ■ 反応中データの同期ロギング ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

※装置仕様によって価格が変動するため、詳しくはお気軽にお問合せください。

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【用途】 ■ 粉末・触媒・電池材料の反応挙動評価 ■ H2、N2、Ar、加湿ガス等での雰囲気処理 ■ 焼成中のガス発生、圧力変化、物温変化の確認 ■ 排ガス分析を伴う小スケール反応試験 ■ 反応条件、流量、昇温速度、保持時間の条件検討 【このような課題に】 ■ 焼成前後の分析だけでは、反応開始・終了が分からない ■ 流量、圧力、物温、排気データを同時に記録したい ■ サンプリングポートや背圧制御を含めて設計したい ■ 外付け計装では校正・同期が崩れ、再現性が出にくい 条件が未確定の段階でも、目的に応じた炉構成・計測構成をご相談いただけます。