ご紹介開始より、各社様からご好評を頂いております、PlasmaQuest社製 リモートプラズマ イオンビームスパッタリング装置のページを更新いたしました。 リモートプラズマ ターゲットバイアス スパッタリングの動画を掲載いたしました。 ご質問、ご要望等ございましたらお気軽にお問い合わせください。

MEMS Engineerフォーラムは、21世紀のキーテクノロジーとされるMEMS技術のキープレイヤーの中でもエンジニアを中心に運営されるユニークなフォーラムです。 世界中のMEMS研究者、開発者、技術者が一堂に集うこのフォーラムの技術展示会にて、Plasma Quest Ltd.社製 リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置のご紹介と技術展示をいたします。 弊社展示のみならず、MEMSに関する最先端の技術をご覧いただける絶好の機会でございます。ぜひ足をお運びいただきたくご案内申し上げます。

BeltTechnologies社製 PureSteelベルト -継ぎ目のない金属ベルト- 搬送システムのご紹介です。 継ぎ目のない金属ベルトは無菌医薬品製造施設・大規模食品製造施設など、衛生要件レベルの高い環境で真価を発揮します。 この画期的なベルトシステムは、半導体製造工場での搬送用途での実績を重ねて参りました。 半導体製造施設内においては、すべての運用環境で超高清浄が必須であり、そのプロセス中では 高温・真空・化学洗浄などが日常的に行われます。 そのような過酷で要求レベルの高い環境での搬送に、継ぎ目のないPureSteel金属ベルトが選ばれ続けています。 無塵搬送、清掃が容易であり、各種滅菌薬剤にも耐性のあるベルト搬送システムであるため、半導体製造施設様にとどまらず、PIC/S GMP Annex1 , HACCP などの高度なレギュレーションへの対応を求められる、無菌医薬品製造施設様や無菌医療機器製造施設様、そして食品製造施設様へのご提案を強化致します。

ご紹介開始より、各社様からご好評を頂いております、PlasmaQuest社製 リモートプラズマ イオンビームスパッタリング装置のページを更新いたしました。 特に、多くのお客様からのお問い合わせを頂いております「反応性スパッタの制御能力」について記載をいたしております。 ご質問、ご要望等ございましたらお気軽にお問い合わせください。

これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究。 次世代のMEMS用途として注目されるAlScN成膜など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートいたします。 ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜を実現します。 イオン源とターゲット印加を個別に制御することにより、幅広い成膜条件への対応が可能となるだけでなく、高レートでの成膜も両立させます。 ターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層薄膜も成膜可能です。 基盤表面がプラズマに晒されないため、基盤表面を低温に保っての成膜が可能となります。

-延命化対応- メーカーの保守期間が終了した装置に対する延命化を図ります。 消耗・劣化・故障したモジュールの修理・再生にあたり、現行品を使用することで装置の安定稼働につなげます。 -現行部品での信頼性回復- サーボモータ内で摩耗した部品の交換による対処修理にとどまらず、現行モータ・ドライバを用いた互換モジュールによる延命化をご提供いたします。 現行生産モータ及びドライバを用いて、装置への取り付け部品・治具・コネクタ・カプラ等を製作し、「互換アクチュエーターモジュール」として準備をいたします。 ドライバも変換コネクタ等の準備をすることで、互換モジュールとして準備をいたします。 -装置無改造（非侵襲）による 信頼性の維持- 現行部品を用いての延命化では、それぞれのアクチュエーターを互換モジュールとして設えます。 新たなモジュールへの換装は「ボルトオン」「カプラーオン」で完結するため、稼働中の装置への加工無しに、装置の信頼性を維持しての延命化が実現できます。(*) (＊)モジュール設置に際し追加工が必要となる場合もあります。 弊社で実績の無い装置に関しても是非ご相談ください。

MEMS Engineerフォーラムは、21世紀のキーテクノロジーとされるMEMS技術のキープレイヤーの中でもエンジニアを中心に運営されるユニークなフォーラムです。 世界中のMEMS研究者、開発者、技術者が一堂に集うこのフォーラムの技術展示会にて、Plasma Quest Ltd.社製 リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置のご紹介と技術展示をいたします。 弊社展示のみならず、MEMSに関する最先端の技術をご覧いただける絶好の機会でございます。ぜひ足をお運びいただきたくご案内申し上げます。 会場： 国際ファッションセンター ホール 〒130-0015　東京都墨田区横網1-6-1　国際ファッションセンタービル アクセス　https://www.tokyo-kfc.co.jp/access/ 展示製品： Plasma Quest Ltd. 社製　 リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 https://mono.ipros.com/product/detail/2001148974 https://www.plasmaquest.com/

MBraun社は高品位なグローブボックス製造をはじめとする、科学機器の専門メーカーです。 自社開発した先進設備により受託精製サービス並びに高純度有機材料をご提供しております MBraun社は有機材料を精製する設備のご提供のみならず、開発した設備により受託精製サービス並びに高純度有機材料のご提供をいたしております。 極少量の試験精製から量産スケールまで柔軟に対応いたします。 自社開発した先進の装置により、高純度と高収率を両立した精製を実現しています。 従来とは一線を画す高収率により、原料物質のロスを極小に抑えた高純度化を実現。 コストに力を発揮します。 サービスのご提供にあたってはNDAの締結をいたします。 先端素材の精製にあたりましても、安心してご利用いただけます。 【概要】 ■有機エレクトロニクス材料の昇華精製装置 　・少量から量産規模までの対応　0.1g…＞10kg ■有機材料受託精製サービス　0.1g…1kg ■高純度有機材料供給（例：フラーレンC60）

2024年4月より、ティー・ケイ・エス株式会社がPlasmaQuest製品の日本総代理店となりました。 研究用・生産用のイオンビームスパッタ装置の企画・生産は勿論、独自のプラズマソースを用いたレトロフィットにも対応いたします。 既存装置のアップグレード、近代化改修、延命化のご相談もお気軽にお申し付けください。 PlasmaQuestLimited 社 ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加で高品位かつフレキシブルな成膜をする独自技術を持つメーカーです。 グリッドレスで高密度なイオンを発生させるプラズマソースは長期間メンテナンスフリーでの運用を可能としています。 高品位かつ信頼性の高いプラズマソースは、生産用装置のイオン源として装置メーカーにOEM供給も行われており、世界各国で安定稼働しております。

2024年4月より、ティー・ケイ・エス株式会社が日本総代理店となりました。 ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加で高品位かつフレキシブルな成膜をする独自技術を特徴をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜プロセスの構築など、幅広い研究に対応できる装置です。 これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートする装置です。 卓越した能力により、太陽光発電、光学薄膜、電池材料、ウエアラブルディスプレイ、大容量記憶装置、MEMS、磁気ヘッド、薄膜ヘッド、サーマルヘッド、スピントロニクス素材、ホイスラー合金など先端素材の探索や成膜プロセス開発などに力を発揮します。

2024年４月より、アメリカオングストローム・サイエンス社製「マグネトロンスパッタカソード」の点検・修理のサービスセンターを開設いたします。 新たなサービスセンターにはクリーンルーム設備をはじめ、真空リークチェッカー、各種検査機器を常備して万全な体制でのメンテナンスを実施いたします。 すべての作業はAngstromeScience社での研修を修了した有資格者が指導・監修し、アメリカ本国の修理と同様のサービスを提供いたします。 これまでは、故障に伴う修理を中心に対応をいたしておりましたが、サービスセンター開設を機に定期メンテナンスをお引き受けすることができるようになりました。 定期的にカソードの点検を行って、ダウンタイム無しでの運用をサポートいたします。

今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルター等の光学薄膜に特化した装置です。高品質かつ安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソースの搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜