拝啓　時下ますますご清栄のこととお慶び申し上げます。 平素は格別のご高配を賜り、厚く御礼申し上げます。 さて、このたび弊社では、2026年5月31日付で 代表取締役社長 田村正之 が退任し、 2026年6月1日付で 清水博康 が代表取締役社長に就任いたしました。 これを機に、社員一同、より一層のサービス向上に努めてまいる所存でございます。 今後とも変わらぬご愛顧を賜りますよう、お願い申し上げます。 ティー・ケイ・エス株式会社 代表取締役社長　清水 博康

これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究。 次世代のMEMS用途として注目されるAlScN成膜など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートいたします。 ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜を実現します。 イオン源とターゲット印加を個別に制御することにより、幅広い成膜条件への対応が可能となるだけでなく、高レートでの成膜も両立させます。 ターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層薄膜も成膜可能です。 基盤表面がプラズマに晒されないため、基盤表面を低温に保っての成膜が可能となります。

2024年4月より、ティー・ケイ・エス株式会社がPlasmaQuest製品の日本総代理店となりました。 研究用・生産用のイオンビームスパッタ装置の企画・生産は勿論、独自のプラズマソースを用いたレトロフィットにも対応いたします。 既存装置のアップグレード、近代化改修、延命化のご相談もお気軽にお申し付けください。 PlasmaQuestLimited 社 ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加で高品位かつフレキシブルな成膜をする独自技術を持つメーカーです。 グリッドレスで高密度なイオンを発生させるプラズマソースは長期間メンテナンスフリーでの運用を可能としています。 高品位かつ信頼性の高いプラズマソースは、生産用装置のイオン源として装置メーカーにOEM供給も行われており、世界各国で安定稼働しております。

2024年4月より、ティー・ケイ・エス株式会社が日本総代理店となりました。 ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加で高品位かつフレキシブルな成膜をする独自技術を特徴をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜プロセスの構築など、幅広い研究に対応できる装置です。 これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートする装置です。 卓越した能力により、太陽光発電、光学薄膜、電池材料、ウエアラブルディスプレイ、大容量記憶装置、MEMS、磁気ヘッド、薄膜ヘッド、サーマルヘッド、スピントロニクス素材、ホイスラー合金など先端素材の探索や成膜プロセス開発などに力を発揮します。

2024年４月より、アメリカオングストローム・サイエンス社製「マグネトロンスパッタカソード」の点検・修理のサービスセンターを開設いたします。 新たなサービスセンターにはクリーンルーム設備をはじめ、真空リークチェッカー、各種検査機器を常備して万全な体制でのメンテナンスを実施いたします。 すべての作業はAngstromeScience社での研修を修了した有資格者が指導・監修し、アメリカ本国の修理と同様のサービスを提供いたします。 これまでは、故障に伴う修理を中心に対応をいたしておりましたが、サービスセンター開設を機に定期メンテナンスをお引き受けすることができるようになりました。 定期的にカソードの点検を行って、ダウンタイム無しでの運用をサポートいたします。