高速成膜ALD装置『FHR.STAR-400x300SALD』
In-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応！独FHR社製高速成膜ALD装置
『FHR.STAR-400x300SALD』は、200mmウェハあるいは 400x300mmまでの基板やテキスタイルの成膜に対応した 高速成膜ALD（Spacial ALD）装置です。 400x300の基板では10mm厚迄の3次元形状への均一な成膜が可能。 従来のサーマルALD方式に較べ高速で成膜できるためデバイスの量産に 使用が可能でIn-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応する 設計となっていますのでより精度の高いプロセスコントロールができます。 クラスター対応設計により必要に応じて搬送チャンバー、ロードロック、 その他プロセスチャンバーをインテグレーションができ、この設備の 他小口径ウェハ対応の設備も用意しておりますのでお問い合わせ下さい。 【特長】 ■10mm厚迄の3次元形状への均一な成膜が可能（400x300の基板） ■従来のサーマルALD方式に較べ高速で成膜できる ■デバイスの量産に使用可能 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【その他の特長】 ■200mmウェハや400x300mmまでの基板やテキスタイルの成膜に対応 ■In-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応する設計 ■より精度の高いプロセスコントロールができる ■クラスター対応設計により必要に応じて搬送チャンバー、ロードロック、 その他プロセスチャンバーをインテグレーション可能 ■小口径ウェハ対応の設備もご用意 ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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取り扱い会社
半導体・電子デバイス・光学薄膜製造装置のことなら当社へ 当社は、2016年3月に真空プロセスに関連する世界の先進技術を有する 海外メーカー数社の代理店業務ならびにこれら装置に係わる保守業務を 提供する目的で設立致しました。 当社の取扱製品・装置は、スパッタリング、高密度プラズマソースおよびパルス電源、 イオンビームエッチング・ミリング、イオンビームスパッタリング、 中性クラスターイオンビームプロセス装置、有機材料昇華精製並びに成膜装置、 液体用各種フィルター、洗浄用ブラシなど多岐にわたっています。
