製品・サービス

洗浄装置　WET CLEANER(13)

ウェハ・ガラス・各種材料に対して、高圧断続スプレー・ニ流体・ブラシ・超音波・薬液等を組合せ、研磨後の粗洗浄から精密洗浄、各種洗浄装置の設計から製造、研究開発用のコンパクトな1台からオフライン・インラインの量産装置まで、運用目的とご予算に合わてご提案致します。洗浄プロセスについてもご相談下さい。

散布装置　SPACER SPRAYER(3)

当社では、液晶パネル用乾式スペーサ・その他ナノ粒子等の微粒子散布用の乾式散布装置を提供しております。研究開発用の卓上型手動装置から全自動散布装置、周辺装置を含めて対応致します。

静電気除去装置　LINE IONIZER(0)

当社のイオナイザーは独自の線状対面電極により、安定した除電性能を維持します。構造及び出力の特性上、異物の付着にも強いため、除電性能が低下しにくく、ライン状に出力するため、長期間に渡り、切れ目の無い強力な除電を行います。周波数、電圧等の出力調整が可能なため、環境に合わせた調整・運用が可能です。

検査装置　INSPECTION(0)

エリアカメラによるスペーサ・粒子カウント及びラインセンサーカメラによる全面のクラスター・異物検査を行います。研究開発用途の卓上検査装置からインラインの全自動検査装置、周辺のバッファー・搬送装置等にも対応致します。

高圧パルスジェット　DP-GUN(2)

当社では、断続スプレーのため、同じ圧力（＝衝撃）でも少ない流量となり、水膜ができにくく、対象物へダイレクトに繰り返し衝撃を加えることができる「DP-GUN」を提供しております。異物の除去、マスク（穴開き）洗浄、カセット等の立体物の洗浄にも優れた洗浄効果を発揮します。

研磨装置　POLISHER(1)

研磨装置

株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）公式サイト