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300ｍｍカセットレス洗浄装置

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300ｍｍカセットレス洗浄装置

ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用　／　50枚を一括処理　／　19nμm/5個の高清浄度を達成

＜装置概要＞ 本装置はファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用する装置です。特徴は25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理します。19nμm／5個の高清浄度を達成しています。

基本情報

＜主な仕様＞ 1.被洗浄物 ：　300ｍｍ　厚み　0.75ｔ 2.処理方法 ：　カセットレスによるDip処理 3.処理速度 ：　50枚/5min（可変） 4.装置内清浄度：　0.1μｍ　クラス1 5.パスライン ：　FL+900±5mm　フープによる手動セット 6.搬送方式 ：　前面搬送

価格帯

納期

用途／実績例

ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程

取り扱い会社

株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
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特設サイト 公式サイト
電話番号・住所

EXTENSIVE VISION ON SYSTEM　（幅広い視野に立ったシステム構築） を目的として、独自性の高い製品を作るという意味から名づけられた社名です。 現在の技術革新には目覚ましいものがあり、時代の要求は常に高度なものになっております。熟成化された今の装置産業に革命を起こすべく、常に他社との差別化をなした装置の提案を行い、産業界に貢献する会社であることが我々ゼビオスの使命だと考えております。

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