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ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
最終更新日
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ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
最終更新日
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ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
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省スペース型「スピン洗浄装置（多目的洗浄タイプ）」
１チャンバー型多目的スクラブ洗浄。１チャンバーで異物、金属汚染を取り除くことが可能！省スペースなので研究開発に好適
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シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」
1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の組合せにより量産から研究開発用途まで対応します。
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小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置
ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表裏・側面の同時洗浄に加え超音波シャワー等の組合せも対応
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高圧断続スプレー「DP-Gun」
各種マスクやガラス、ウェハー研磨後の洗浄に！1秒間に30回のノズル開閉が可能なため、少ない水量で繰り返しの衝撃を与えます。
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FOUP洗浄装置
洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄効果が得られます。
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FOSB洗浄装置
洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄効果が得られます
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ボックス洗浄装置
洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄効果が得られます
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キャリア（カセット）ボックス洗浄装置
洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄効果が得られます
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乾式散布装置「卓上型 簡易散布装置」
数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布装置です。帯電量フィードバック制御で安定した散布を実現！
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乾式散布装置「微粒子対応 分散・散布装置」
数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布装置です。帯電量フィードバック制御で安定した散布を実現！
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高圧パルスジェット DP-Gun マスク・ガラス・ウェハー洗浄に
同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰返しの衝撃。マスクやガラス洗浄ウェハ研磨後スラリー除去に。
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乾式散布装置「ドライスペーサー散布装置」
数百nm〜数十μmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、散布装置です。帯電量フィードバック制御で安定した散布を実現します。
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LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置
ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液洗浄装置！薬液によりブラシ洗浄との組合せにも対応です。
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300mmウェハカセットレス洗浄装置
65nμm／5個の高清浄度を達成！25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理
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GaAsエッチング装置
自動で薬液を調合してエッチング槽に必要量投入！シーケンサ制御方式を採用しています
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IR乾燥炉
処理速度は75mm/s！ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーターで加熱乾燥します
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OLED用処理装置
処理速度は0.6～5.0m/min（可変）！有機EL製造ラインの洗浄装置を提供しています
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PDP向けカセット洗浄装置
カセットに合わせ設計・製作！純水高圧洗浄＋温風乾燥を行う自動洗浄装置
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Siナゲット洗浄装置
フッ酸、硝酸を使用！洗浄バスケットを揺動して洗浄効率を向上しています！
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インキュベーター（恒温槽）『DAN-3502』
ノングリップ・スクーパーで優しくハンドリング！棚情報管理、バーコード管理にも対応
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ウェハ移載装置
オリフラ合わせはスイッチにて切替可能！中央部で偶数列のウェハを反転させるウェハ移載装置
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フリット乾燥炉
ガラスSIZEに合わせ製作！ガラスパネルに塗布されたフリットペーストの乾燥を行います
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マスクガラス洗浄装置
passlineは400mm！SPMと中性洗剤＋USにより洗浄し、温水引き上げで乾燥をします
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ユタカドライ乾燥装置
ウォーターマーク発生なし！表面張力の原理を応用しスロー引き上げで乾燥させる装置
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磁気ヘッド洗浄装置
リンス乾燥は純水ディップ、QDR、純水シャワー、スピンドライヤを1槽に組み込んだ複合リンス乾燥処理！
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自動搬送カセットクリーンオーブン
一度に1セット分を処理できる！搬送機付自動カセットクリーンオーブンのご紹介
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真空乾燥装置
乾燥炉内のワーク設置台を専用設計！前面扉は片開きで開口が広く部品の出し入れが容易
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