IR乾燥炉
処理速度は75mm/s！ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーターで加熱乾燥します
『IR乾燥炉』は、ローラー搬送によるタクト搬送で処理を行う製品です。 洗浄、エアブロー後の基板を加熱することにより、基板上の微水分を 蒸発させ、乾燥を実施。 ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーター（クラス100）で加熱乾燥します。 【主な仕様】 ■被加熱物：TFT用ガラスパネル（2880×3130×0.6t） ■処理方法：ローラー搬送によるタクト搬送（6°傾斜） ■処理速度：75mm/s（Tact Time：56sec） ■加熱条件：ガラス表面温度 70 ℃以上到達 ■パスライン：FL+1800±25mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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EXTENSIVE VISION ON SYSTEM （幅広い視野に立ったシステム構築） を目的として、独自性の高い製品を作るという意味から名づけられました。 現在の技術革新には目覚ましいものがあり、時代の要求は常に高度なものになっております。熟成化された今の装置産業に革命を起こすべく、常に他社との差別化をなした装置の提案を行い、産業界に貢献する会社であることが我々の使命だと考えております。