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PDP向けカセット洗浄装置

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カセットに合わせ設計・製作！純水高圧洗浄＋温風乾燥を行う自動洗浄装置

当社が取り扱う、『PDP向けカセット洗浄装置』をご紹介します。 PDP用基板を搬送するカセットを温水高圧シャワー⇒液切り⇒温風乾燥させる 自動洗浄装置で、カセットに合わせ設計・製作致します。 処理方法は純水高圧洗浄＋温風乾燥となっております。 【主な仕様】 ■被加熱物：PDPカセット（2800W×4700D×1500H）重量：1000kg ■処理方法：純水高圧洗浄＋温風乾燥 ■処理速度：100mm/s（Tact Time：28min） ■加熱条件：100℃±5℃ ■パスライン：FL+2400 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - http://www.dan-science.co.jp/

基本情報

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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納期

用途／実績例

【実績】 ■FPD：G3、G6、G8ガラス基板用カセット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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EXTENSIVE VISION ON SYSTEM　（幅広い視野に立ったシステム構築） を目的として、独自性の高い製品を作るという意味から名づけられました。 現在の技術革新には目覚ましいものがあり、時代の要求は常に高度なものになっております。熟成化された今の装置産業に革命を起こすべく、常に他社との差別化をなした装置の提案を行い、産業界に貢献する会社であることが我々の使命だと考えております。

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