【高温加熱炉予算申請用カタログ】＼開発・研究費などの予算申請に／

株式会社米倉製作所

世界中の様々な研究機関で使用されている、米倉製作所の加熱観察装置・IRイメージ炉をラインナップしました。 ▼ラインナップ▼ 高温炉 1.加熱観察型「MHO-300-2」お持ちの顕微鏡で観察！オプションで-100℃まで冷却も 2.小型「IR-TPS」お持ちの顕微鏡で高温(1500℃)その場観察 3.超高温加熱型「IR-18SP」高温(1800℃)まで加熱 4.小型「IR-TP」各種分析を可能とした設計 5.広域高温型「IR-QP」IRシリーズでは加熱範囲が広く、高温(1700℃)まで加熱 6.広域型「IR-HP」IRシリーズでは加熱範囲が広く、平板、ウエハ、基板などの加熱に引張圧縮機構 6.引張圧縮機構「CATY-T3H」高温＆引張圧縮＆In-situ観察が同時に詳細は各商品ページなどでご確認ください。試験に合わせたカスタマイズのご相談も承っておりますので、お気軽にお問い合わせください。

開催日時
会場
参加費

お問い合わせ

関連製品情報

《集光式加熱炉 IRシリーズ》超高速加熱冷却・省エネ・コンパクト
集光加熱方式で約50℃/secの急速昇温、加熱ランプOFFで急冷も可能。各種雰囲気への対応

【その他の特徴】 ○発光した赤外線輻射光は効率良く反射集光し、高い加熱能力を一段と高める ○熱容量の少ない発熱ランプと冷却された高反射鏡だけで炉の熱容量は極小で急速加熱冷却が可能 ○真空気密構造（特許申請中）のため、直接輻射加熱ができクリーン急速加熱冷却が可能 ○手軽に高温顕微鏡観察が可能【ラインナップ】 ○IR-HP（6放物面輻射） →6方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ、温度分布領域を飛躍的に拡大 ○IR-QP（4楕円共有集光） →4方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ2倍の温度分布領域と急加熱 ○IR-TP（2楕円共有） →2方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ顕微鏡観察を可能に ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
超高温観察レーザー顕微鏡システムVL3000DX-SVF18SP
最高1800℃の環境下を高解像度で in-situ（その場）観察。セラミックス、二次電池等の研究、材料開発に！

【仕様】 ■ システム名 VL3000DX-SVF18SP ■ 構成 [ レザーヘッドVL3000DX ] [ 加熱装置SVF18SP ] ■ オプション [ 加熱負荷装置SVF12FYC ] ※ 仕様は予告なく変更する可能性があります
≪高温加熱・引張圧縮・その場観察≫雰囲気制御も/CATY-T3H
材料表面の状態を観察しながら試験が行える［両振式クロスヘッド採用］試料位置を中央にキープで変化を逃さない！

【仕様】《引張モジュール》　荷重容量：2kN（200kgf）または5kN（500kgf）　試験速度：0.001～10mm/min 　試験片有効長：最大60mm 《加熱炉》　加熱方式：赤外線2楕円筒集光加熱方式　温度範囲：60～最大1500℃ 　温度制御：デジタルプログラムPID-SCR制御《観察》　対物レンズ：長作動型（×5、10、20、50）、低倍率ズームレンズ、倍率可変型マイクロスコープ　雰囲気：大気中、ガスフロー中、真空中　XYステージ：X軸 ±50mm／Y軸 ±10mm ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
《加熱・冷却観察装置 MHO-300-2 》小型・置くだけ・簡単
《加熱・冷却観察装置 MHO-300-2 》お持ちの顕微鏡・マイクロスコープに置くだけ！コンパクトで薄型／雰囲気制御可能

【仕様】 ■ 製品名加熱・冷却観察装置　MHO-300-2 温度制御：RT+20℃～300℃ 冷却機構：-100~200℃ 昇温冷却速度：100℃/min 加熱制御性：±1℃以内加熱範囲：20×20ｍｍ ■外寸及びユーティリティ外観寸法：85mm×155mm×30mm（突起部除く）ホルダ：75mm×25mm（プレパラートサイズ）定格電源：AC100V-5A ■オプション・ガス導入口、サンプル通電ポート、真空用ロータリーポンプ・水循環装置（ステージ外壁保温・冷却用）・温度プログラマブルソフトウエア、温度表示動画記録ソフト【対象材料】顕微鏡下での熱学的現象を可視化できる化学・高分子・半導体など材料研究、また生物学・医学の基礎的研究分野でもご利用いただけます。
お持ちの顕微鏡で《最高1500℃》高温その場観察【IR-TPS】
コンパクトに設計された高温加熱観察装置です。お持ちの顕微鏡、マイクロスコープに載せて使用可能です。

【仕様】 ○温度範囲：+50～1500℃ ○加熱特性：室温～1500℃まで60秒 ○加熱方式：赤外線発光・反射集光加熱 ○冷却方式：自然放冷 ○雰囲気：大気中・ガスフロー・真空中 ○到達真空度：約5Pa ○試料容器：外径φ5×4mm・φ6.5×4mm ○安全対策：炉体温度センサー ○温度制御：デジタルプログラムPID-SCR制御 ○温度プログラム：16セグメント　16パターン ○温度センサー：JIS R型熱電対 ○使用電力：500W/100V ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
≪はんだ・基板・溶融・ろう付≫加熱その場観察に好適【IR-HP】
チップ部品等の微小実装部品から基板（□100mm）、固体・粉末の溶融、ろう付け等のその場観察を実現します！

■仕様温度範囲：RT～1300℃（サンプルの熱容量等に依存します）雰囲気：真空排気後高純度ガス中・ガスフロー中到達真空度：10Pa程度～（ポンプの能力に依存します）真空引口：NW25 試料ステージ：□100mm 加熱方式：赤外線ランプ発光・反射集光加熱冷却方式：ランプオフによる自然冷却（オプションで急冷有り）加熱特性：1000℃まで20秒以内（サンプルの熱容量に依存します）安全対策：標準装備：炉体外壁温度センサー・温度偏差オプション：過昇温 ■オプション・真空排気装置ロータリーポンプ～ターボポンプ迄、ご希望の真空度に合わせて選定可能・ガス導入装置浮き子式流量計～マスフロー等も選定可能電磁弁のON、OFFにより指定したタイミングでガスを入れたりガスの切り替え・ガス冷却機構急冷ノズルを使用してサンプルに直接ガスを当てる電磁弁のON、OFFにより指定したタイミングで急冷を行う
高温観察装置『IR-HP』/ 接触角・濡れ性測定アプリケーション
上部・側部の観察窓から加熱中のサンプル状態も観察可能！画像データから接触角や濡れ性の自動計算も可能に！　※デモ受付中

【その他特長】 ■『162W×160H×382Lｍｍ』のコンパクトサイズ ■炉内密閉構造により真空・ガス装置が可能 ■ランプ加熱のためクリーンな環境での加熱が可能 ■オプションの急冷機構により急速加熱が可能 ■ズームレンズやマイクロスコープとの組合せも可能 ■オプションにて加熱中のサンプルを観察しながら温度と時間を貼り付けて動画保存が可能【仕様】※一部抜粋 ■観察機構：低倍率（7倍）～高倍率（500倍以上） ■加熱方式：赤外線5放物面反射加熱方式 ■温度範囲：RT～1300℃ ■加熱速度：1000℃/min以上 ■ヒーター：200V-1kW又は1.5kW又は2kW×5本（温度やサンプルにより決定） ■必要電源：200V-25A又は37.5A又は50A（ランプ仕様による） ■雰囲気調整装置：・ガス導入機構（手動・自動・流量調節・複数ガス種類）・真空ガス置換機構（手動・自動・ポンプ種類）【アプリケーション仕様】 ■温度範囲　RT～1300℃ ■加熱範囲　１０ｍｍ角 ■雰囲気　　大気・不活性ガス・真空 ■観察方向　横・上 ■自動接触角測定ソフト付き
高温観察装置　IR-QP1-4、QP2-4
1700℃まで高速加熱が可能で、保持もできます！

【特長】 ○サンプルのみの集光加熱により1700℃まで加熱が可能 ○ハロゲンヒータによりわずか4kW（8kW）の低電力で1000℃/min以上の高速加熱を実現 ○観察窓を設けている →加熱中のサンプルの状態が観察可能 ○コンパクトサイズ →120W×115H×282（382）Lｍｍ（突起部を除く） →場所をとらずに加熱が可能 ○炉内密閉構造 →真空・ガス装置が可能 →真空引き口・ガス導入口標準装備 ○ランプ加熱のためクリーンな環境での加熱が可能 ○オプションの急冷機構により急速加熱が可能 ○別ラインナップにて、顕微鏡とセットでの組合せも可能 ※高温時直視不可 ○オプションにて加熱中のサンプルを観察しながら温度と時間を貼り付けて動画保存が可能【仕様】※一部抜粋 ○加熱方式：赤外線集光加熱方式 ○温度範囲：RT～1700℃ ○加熱速度：1000℃/min以上 ○ヒーター：200V-1kW（200V-2kW）×4本 ○必要電源：200V-30A（45A） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。