株式会社米倉製作所 公式サイト

コンパクトに設計された高温加熱観察装置です。 お持ちの顕微鏡、マイクロスコープに載せて使用可能です。

【仕様】 ○温度範囲：+50～1500℃ ○加熱特性：室温～1500℃まで60秒 ○加熱方式：赤外線発光・反射集光加熱 ○冷却方式：自然放冷 ○雰囲気：大気中・ガスフロー・真空中 ○到達真空度：約5Pa ○試料容器：外径φ5×4mm・φ6.5×4mm ○安全対策：炉体温度センサー ○温度制御：デジタルプログラムPID-SCR制御 ○温度プログラム：16セグメント　16パターン ○温度センサー：JIS R型熱電対 ○使用電力：500W/100V ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

材料表面の状態を観察しながら試験が行える［両振式クロスヘッド採用］試料位置を中央にキープで変化を逃さない！

【仕様】 《引張モジュール》 　荷重容量：2kN（200kgf）または5kN（500kgf） 　試験速度：0.001～10mm/min 　試験片有効長：最大60mm 《加熱炉》 　加熱方式：赤外線2楕円筒集光加熱方式 　温度範囲：60～最大1500℃ 　温度制御：デジタルプログラムPID-SCR制御 《観察》 　対物レンズ：長作動型（×5、10、20、50）、低倍率ズームレンズ、倍率可変型マイクロスコープ 　雰囲気：大気中、ガスフロー中、真空中 　XYステージ：X軸 ±50mm／Y軸 ±10mm ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

超高温をその場観察！「今」見たいを叶える高速昇温、高速降温可能な 挙動変化をリアルタイムで観察記録可能なシステムです

□基本型式 ステージ本体　　　　IRー18SP 温度コントローラ　　YTCー3030PF チラーユニット　　　冷却能力1.2kW程度(流量センサ付き） □仕様 炉 体 加熱範囲　150～1800℃ 雰囲気　大気・ガスフロー・真空 到達真空度　約1Pa 試料ホルダー　アルミナセルΦ9×4tmm 熱電対　R熱電対 □その他 安全機構　炉体温度センサ（その他対応可） ステージ本体（寸法）280W×190H×130Dmm 温度コントローラ（寸法）160W×230H×330Dmm ステージ本体（重量）約6kg 温度コントローラ（重量）約6kg

【コンパクトな卓上型】加熱中のろう材、はんだの挙動をマルチアングルで観察・撮影可能！

【その他の特長】 ■カメラ2台で別角度からの同時観察も可能 ■サンプルホルダも100×100mmで大きなサンプルもそのまま加熱可能 ■ガス置換も可能で、真空中、Ar、N2など各種雰囲気での加熱が可能 ■露点温度制御、酸素濃度制御もご相談可能 ■温度制御はプログラマブル温調器、もしくは専用ソフトHiTOS上でプログラム可能 ■急速昇温冷却が可能なので、従来再現の難しい温度プロトコルも簡単に実験可能 ■実温度記録と同期させた動画記録も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

最高加熱温度1400℃！金属やセラミックスの高速昇温、加熱・冷却サイクル試験に

【仕様】※一部抜粋 ■加熱ゾーン：70×70×2tmm ■最高温度：1400℃（保持可能） ■昇温速度：50/sec(試料の熱容量によって異なる） ■炉内雰囲気：大気中、真空中、ガス中、バブリング中 ■対応オプション：均熱サセプター、急冷ノズル、自動運転 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

上部・側部の観察窓から加熱中のサンプル状態も観察可能！画像データから接触角や濡れ性の自動計算も可能に！　※デモ受付中

【その他特長】 ■『162W×160H×382Lｍｍ』のコンパクトサイズ ■炉内密閉構造により真空・ガス装置が可能 ■ランプ加熱のためクリーンな環境での加熱が可能 ■オプションの急冷機構により急速加熱が可能 ■ズームレンズやマイクロスコープとの組合せも可能 ■オプションにて加熱中のサンプルを観察しながら温度と時間を貼り付けて動画保存が可能 【仕様】※一部抜粋 ■観察機構：低倍率（7倍）～高倍率（500倍以上） ■加熱方式：赤外線5放物面反射加熱方式 ■温度範囲：RT～1300℃ ■加熱速度：1000℃/min以上 ■ヒーター：200V-1kW又は1.5kW又は2kW×5本（温度やサンプルにより決定） ■必要電源：200V-25A又は37.5A又は50A（ランプ仕様による） ■雰囲気調整装置： ・ガス導入機構（手動・自動・流量調節・複数ガス種類） ・真空ガス置換機構（手動・自動・ポンプ種類） 【アプリケーション仕様】 ■温度範囲　RT～1300℃ ■加熱範囲　１０ｍｍ角 ■雰囲気　　大気・不活性ガス・真空 ■観察方向　横・上 ■自動接触角測定ソフト付き

赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。

【基本構成】 ○加熱炉本体 ○試料ホルダー（石英ホルダー、熱電対1式） ○温度コントローラ 【オプション】 ○炉内部真空対応 ○ガス冷却機構 ○真空排気系 ○灼熱板 ○冷却水循環装置 ○CCDカメラ及び観察系 【主要仕様】 ○温度範囲：RT~1100℃※ ○加熱特性：30℃/秒※ ○加熱方式：赤外線反射集光加熱 ○冷却方式：自然冷却 ○雰囲気：大気、オーバーパージ(オプションにより真空中及びガスフロー中も可能) ○加熱可能範囲：100×100mm～100×200ｍｍ程度、3インチ～6インチ ○温度センサー：K又はR熱電対 ○温度制御：デジタルプログラムPID-SCR制御 ○温度プログラム：99プログラム、99セグメント ○安全対策：炉体水冷、保安措置付き ※加熱対象の熱容量によって変わります。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

1700℃まで高速加熱が可能で、保持もできます！

【特長】 ○サンプルのみの集光加熱により1700℃まで加熱が可能 ○ハロゲンヒータによりわずか4kW（8kW）の低電力で1000℃/min以上の高速加熱を実現 ○観察窓を設けている →加熱中のサンプルの状態が観察可能 ○コンパクトサイズ →120W×115H×282（382）Lｍｍ（突起部を除く） →場所をとらずに加熱が可能 ○炉内密閉構造 →真空・ガス装置が可能 →真空引き口・ガス導入口標準装備 ○ランプ加熱のためクリーンな環境での加熱が可能 ○オプションの急冷機構により急速加熱が可能 ○別ラインナップにて、顕微鏡とセットでの組合せも可能 ※高温時直視不可 ○オプションにて加熱中のサンプルを観察しながら温度と時間を貼り付けて動画保存が可能 【仕様】※一部抜粋 ○加熱方式：赤外線集光加熱方式 ○温度範囲：RT～1700℃ ○加熱速度：1000℃/min以上 ○ヒーター：200V-1kW（200V-2kW）×4本 ○必要電源：200V-30A（45A） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

顕微鏡のステージに乗せての使用が可能。結露・結霜の少ない冷却加熱

【仕様】 ○加熱方式：セラミックヒーター加熱・液体窒素吸引による冷却 ○温度範囲：-50～+150℃ ○加熱速度：-50℃まで約15分以内（ステージが空の状態） ○温度センサ、精度：K型熱電対、0.1℃分解能 ○温度制御：冷却制御・ヒーターPID制御 ○上部観察窓：φ10～40mm ○試料設置方法：φ6.5mm容器（アルミニウム製）又はステージへ直接設置 ○雰囲気：大気中・不活性ガスフロー中（完全密閉ではありません） ○炉体寸法：約100W×100D×70H ○ガス導入排気口：1/4インチクイック継手 ○その他：窓ガラス曇り防止ガスパッケージ口φ4mm ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

チップ部品等の微小実装部品から、基板・コネクターなどのその場観察を実現

【高品質オプション】 ○スーパーインポーズ用ソフト及びパソコン（17インチ液晶モニター付） →温度・時間のデータをモニタ画面に貼り付け高品質のリアルタイム映像観察が可能 ○ズームレンズ付きCCD観察機構 →上部・側面からの２方向観察機構から構成されており、上部のみ、側面のみ、 　上部・側面と必要に応じて選択可能 →ズーム観察倍率は40倍～140倍に対応 ○ガス冷却機構 →冷却速度及びスループットの向上を実現 ○真空排気系 →クリーンなガス雰囲気を実現、真空置換用 ○冷却水循環装置 →加熱炉本体冷却用 ○高倍率／低倍率ズームレンズ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

集光加熱方式で約50℃/secの急速昇温、加熱ランプOFFで急冷も可能。各種雰囲気への対応

【その他の特徴】 ○発光した赤外線輻射光は効率良く反射集光し、高い加熱能力を一段と高める ○熱容量の少ない発熱ランプと冷却された高反射鏡だけで炉の熱容量は極小で急速加熱冷却が可能 ○真空気密構造（特許申請中）のため、直接輻射加熱ができクリーン急速加熱冷却が可能 ○手軽に高温顕微鏡観察が可能 【ラインナップ】 ○IR-HP（6放物面輻射） →6方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ、温度分布領域を飛躍的に拡大 ○IR-QP（4楕円共有集光） →4方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ2倍の温度分布領域と急加熱 ○IR-TP（2楕円共有） →2方向からの急速加熱冷却で従来の加熱炉に比べ顕微鏡観察を可能に ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。