走査型赤外線平面偏光解消計『SIRD SiC 200』
見えない応力を、非接触で可視化。ベアウェハの品質を次工程へ
『SIRD SiC 200』は、半導体ウェハ内の応力場、欠陥、埋もれた構造を、 高速かつ非接触・非破壊で認識・可視化するシステムです。 さまざまな欠陥には固有の応力場があり、当製品はそれを光学的に、 非接触かつ非破壊で可視化し、欠陥、ストレスを検出します。 【特長】 ■非接触・非破壊測定：ウェハ表面へのダメージを与えずに検査できます ■応力分布の可視化：ウェハ全面の応力傾向を把握し、局所的な異常を特定します ■高速な走査測定：量産ラインでのスループットを意識した設計です ■ベアウェハに対応：前工程の品質管理や受け入れ検査に適しています ■多様な半導体材料：Si、SiC、GaN、GaAs、InP、AlNなど 【使用用途】 ■ベアウェハの受け入れ検査（インカミング検査） ■結晶成長・研磨工程後の品質評価 ■歩留まり改善に向けた工程分析 ■研究開発における材料評価 ※詳しくはPDF(英語版)をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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半導体製造、結晶成長、真空・プラズマ処理、非破壊材料評価の各分野で、先端材料の開発・製造・分析を可能にするシステムを設計・製造しています。 Material Solutions（マテリアルソリューションズ）: 半導体製造、結晶成長、真空・プラズマ処理に関連するシステムを提供。 Metrology Systems（メトロロジーシステムズ）: 精密で非破壊の材料評価・計測システムを提供。 ドイツに本社を置きながら米国、カナダ、中国、日本、シンガポール、韓国など複数の国々と、いくつかの欧州諸国に子会社を持っています。現地の顧客に寄り添う体制と、グループ全体の技術力を組み合わせて事業を展開しています。 主な顧客業界 ●半導体 ●エレクトロニクス ●エネルギー ●宇宙航空 ●材料科学 ●医療 など多岐にわたりフルカスタマイズ可能な装置をお客様へ提供しています。