ウェットプロセス装置『BATCHSPRAY Acid』

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式ウェットプロセス装置】半自動装置

最終更新日 2025年04月30日

有機洗浄装置『BATCHSPRAY Solvent』

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】半自動装置

最終更新日 2025年04月30日

BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】

最終更新日 2025年04月11日

BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】

最終更新日 2025年04月11日

有機洗浄装置『BATCHSPRAY Autoload』

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】全自動装置

最終更新日 2025年04月30日

ウェットエッチング装置『BATCHSPRAY Autoload』

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】全自動装置

最終更新日 2025年04月30日

高精度ウェット装置『BATCHSPRAY Autoload』

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】全自動装置

最終更新日 2025年04月30日

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BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減

最終更新日 2025年04月25日