ハフニュウム(Hf)ターゲット
ハフニュウム(Hf)ターゲット 純度≧4N5 Zr≦0.1wt％
■高純度Hfターゲット、半導体業界使用実績あり GDMS純度測定値付き ■厳しい管制の状況で、法律に従って許可書対応して輸入を行う ■民用であれば供給可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
■高純度と均一性 ・純度≧4N5 工業用Hfターゲットの純度は通常≧99.9％(3N)であり、 高純度Hfターゲットは99.995％(4N5)以上に達することができる ・結晶粒径が均一(80μm未満)であり、薄膜堆積の安定性と一致性を確保する ■ターゲット内部欠陥なし UT検査により、内部欠陥なしで保障 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■光学・光電分野 ■医療・生体材料 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
取り扱い会社
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。