金属ターゲット
金属ターゲット
金属ターゲット
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ジルコニウム(Zr)ターゲット
ジルコニウム(Zr)ターゲット 純度≧3N5、Hf≦0.2wt%,出荷中
最終更新日
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ハフニュウム(Hf)ターゲット
ハフニュウム(Hf)ターゲット 純度≧4N5 Zr≦0.1wt%
最終更新日
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タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
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ニオブ(Nb)ターゲット
ニオブ(Nb)ターゲット 純度≧3N5
最終更新日
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錫(Sn)ターゲット
錫(Sn)ターゲット 純度≧4N
最終更新日
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タンタル(Ta)ターゲット
タンタル(Ta)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
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クロム(Cr)ターゲット
クロム(Cr)ターゲット 純度≧3N8
最終更新日
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ニッケル(Ni)ターゲット
ニッケル(Ni)ターゲット 純度≧4N5
最終更新日
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チタン(Ti)ターゲット
チタンTiターゲット 最高純度≧5N5
最終更新日
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銅(Cu)ターゲット
銅(Cu)ターゲット 純度:3N7~6N 結晶40‐80um C18200 C18150も取り扱い
最終更新日
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鉄(Fe)スパッタリングターゲットFe 蒸着用アイロンターゲット
薄膜形成や超伝導材料、耐熱・耐食性用途に用いられる純度99.9%の鉄(Fe)材料!
最終更新日
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【半導体向け】錫(Sn)ターゲット
錫(Sn)ターゲット 純度≧4N
最終更新日
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【半導体向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット
半導体薄膜形成に。高純度Hfターゲットで高品質な薄膜を。
最終更新日
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【原子力制御棒向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、原子力制御棒の信頼性を向上
最終更新日
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【航空宇宙向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
航空宇宙分野の耐熱性を向上させる高純度Hfターゲット
最終更新日
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【医療向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、造影剤の品質向上をサポート
最終更新日
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【電子部品向け】高純度Hfターゲット
電子部品の誘電体膜に。高純度Hfターゲットで信頼性向上
最終更新日
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【化学触媒向け】高純度ハフニウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、触媒反応の効率化をサポート。
最終更新日
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【ディスプレイ向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、ディスプレイの品質向上に貢献
最終更新日
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【エネルギー分野向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで燃料電池などのエネルギー効率向上をサポート
最終更新日
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【計測機器向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、センサーの性能向上をサポート
最終更新日
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【光学レンズ向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、光学レンズの性能向上をサポート
最終更新日
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【研究機関向け】ハフニュウム(Hf)ターゲット
高純度Hfターゲットで、実験の信頼性を向上。
最終更新日
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【半導体向け】タングステン(W)ターゲット
高純度タングステン(W)ターゲットで、スパッタリング効率を向上
最終更新日
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【ディスプレイ向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
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【医療機器向け】タングステン(W)ターゲット
高純度タングステン(W)ターゲットで、X線システムの性能向上を
最終更新日
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【航空宇宙向け】タングステン(W)ターゲット
航空宇宙分野の耐熱用途に。高純度タングステンターゲット
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【自動車向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
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【エネルギー業界向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
最終更新日
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【光学向け】タングステン(W)ターゲット
タングステン(W)ターゲット 純度≧5N
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