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【研究機関向け】タンタル(Ta)ターゲット

タンタル(Ta)ターゲット 純度≧5N

研究機関における実験では、信頼性の高い結果を得るために、高品質な材料が不可欠です。特に、薄膜形成実験においては、ターゲット材の品質が実験結果を大きく左右します。タンタル(Ta)ターゲットは、高耐熱性、優れた耐蝕性、良好な導電性を持ち、実験の効率化と精度の向上に貢献します。当社のタンタル(Ta)ターゲットは、高品質な材料と高度な製造技術により、研究開発を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・PVD/CVDプロセスを用いた薄膜形成実験 ・高エネルギー・スパッタリング実験 ・半導体デバイスの研究開発 ・耐食性材料の研究 【導入の効果】 ・高品質な薄膜の形成 ・実験結果の信頼性向上 ・実験効率の向上 ・研究開発の加速

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基本情報

【特長】 ・高純度(99.999% 5N) ・均一結晶粒構造 ・複数の形状に加工可能 ・高耐熱性、優れた耐蝕性 ・高密度(16.6g/cm3) 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場と緊密な協力関係を築いております。この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスを提供し、お客様の研究開発を支援します。また、W(タングステン)、Hf(ハフニウム)、Zr(ジルコニウム)、Co(コバルト)、V(バナジウム)、Mo(モリブデン)など、様々な材質のターゲット材も提供可能です。

価格帯

納期

用途/実績例

【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■光学・光電子分野 ■航空宇宙と高温コーティング ■医療設備 ■腐食防止コーティング ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

スパッタリングターゲット 薄膜材料【製品紹介】

製品カタログ

タンタル(Ta)ターゲット【金属ターゲット】

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取り扱い会社

  当社はターゲット材分野で長年に経験をもつ専門サプライヤーとして、高品質なスパッタリングターゲット原材料の選定、仕入れから倉庫管理、製造、品質検査までカバーする全体の品質管理体制を整え、且つ全ロット精密検査を行い、純度や密度、結晶粒径などの主要指標の高レベルを確保しております。   また、弊社はジルコニウムターゲット(Zr)、ハフニウム(Hf)、タングステン(W)、タンタル(Ta)などの規制対象材料について、法令で必要な輸出許可証を注文ごと取得しています。お客様の安定購入のため、購入先国の政策が変わっても、新しい規制政策を理解し、十分な在庫、柔軟な生産対応、迅速な物流で対応致します。これまでの実績でも、輸出規制の影響でお客様の生産スケジュールが滞ったことはなく、納期達成率はほぼ100%、また急な要望にも対応可能です。   お客様に対し安定供給の重要性を十分理解しており、その為に在庫管理、品質追跡システムを間断なく改善を進め、お客様に安心頂いております。   お客様事業の発展を第一に考え、法令遵守を前提とし高品質なターゲット材料を軸に、お客様にとって一番信頼できる長期パートナーであり続けます。