【半導体薄膜向け】ジルコニウム(Zr)ターゲット
高品質ジルコニウム(Zr)ターゲットで、半導体薄膜の品質向上をサポート
半導体業界において、薄膜形成はデバイスの性能を左右する重要な工程です。ジルコニウム(Zr)ターゲットは、高い純度と均一な膜質が求められます。特に、薄膜の密着性や耐食性は、製品の信頼性を大きく左右するため、高品質なターゲット材の選定が不可欠です。当社のジルコニウム(Zr)ターゲットは、高い純度と厳格な品質管理により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・スパッタリングによる薄膜形成 ・半導体デバイス製造 ・高品質な薄膜が必要な研究開発 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成によるデバイス性能向上 ・歩留まりの向上 ・信頼性の高い製品の提供
基本情報
【特長】 ・純度≧3N5 ・Hf≦0.2wt% (Hf<500ppm可能) ・そり≦0.1mm ・GDMS純度測定による品質保証 ・輸出許可書取得済み 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術を持つ日系中国現地法人工場と緊密な協力関係を築いております。高品質でコストに優れた製品・サービスを提供し、お客様の事業発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かして新たな価値を提供します。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■医療設備 ■光学と光電の分野 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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取り扱い会社
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。