取り扱い製品カテゴリ
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◉ nanoETCH ソフトエッチング装置
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□■□MiniLabシリーズ実験装置□■□
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◉ 【MiniLab-026】小型真空蒸着装置
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◉ 【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置
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◉ 【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置
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◉ 【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置
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【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
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□■□薄膜実験装置(コンパクトタイプ)□■□
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◉ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
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◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
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◉ nanoCVD-8G/8N グラフェン/CNT合成装置
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◉ Nanofurnace "BWS-NANO" 熱CVD装置
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◇◆成膜コンポーネント◆◇
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□■□超高温小型実験炉シリーズ□■□
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◉ Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉 Max2200℃
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◉ TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃
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● MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉2200℃
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◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
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□■□基板加熱ヒーター□■□
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◉ BHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1600℃
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◉ SHシリーズ基板加熱ヒーター Max 1100℃
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◉ ホットステージ「基板加熱機構」Max 1800℃
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◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃
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□■□温度センサー□■□
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□■□赤外線温度計測機器□■□
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◉ 小型・高精度赤外線放射温度センサー
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◉ USB接続式・放射率可変 高温用赤外線放射温度センサー
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◉ 本質安全防爆型赤外線放射温度センサー
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◉ スマートホン設定式赤外線放射温度センサー
製品・サービス(57件)
ニュース一覧
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真空蒸着装置□■□【MiniLab-LT080A】□■□抵抗加熱・有機蒸着・電子ビーム蒸着など様々な用途の蒸着が可能
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、070と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-070の上位機種。070同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料)、EB蒸着、RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ、RIEプラズマエッチング、アニールなどの幅広い目的にも対応。 ・最大基板サイズ:Φ11inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4元 ・有機蒸着源 x 最大4元 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4元 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃、Max1000℃) ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 蒸着・スパッタ・EB蒸着・有機蒸着等ご要望によりフレキシブルに構成可能。
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、070と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-070の上位機種。070同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料)、EB蒸着、RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ、RIEプラズマエッチング、アニールなどの幅広い目的にも対応。 ・最大基板サイズ:Φ11inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4元 ・有機蒸着源 x 最大4元 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4元 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃、Max1000℃) ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能
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nanoPVD-S10Aスパッタ装置 標準規格品登場!従来よりお求めやすい価格・短納期でご提供可能になりました。
標準 在庫規格品、従来よりお求めやすい低価格・短納期でのご提供が可能になりました。 *下記構成に限ります。又、在庫状況も変わりますので詳細は当社までお問い合わせください。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ:Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力:≤5 x10-7mbar(*10-6mbar台まで最速15分) ● 2"マグネトロンカソード x 2:自動連続多層膜, 2源同時成膜(RF/DCのみ) ● RF150W、DC780W 電源搭載 ● プロセスガス3系統(Ar, O2, N2) ● 主排気TMP、粗挽RP(*ドライポンプ オプション) ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属:システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など
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☆★☆★【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置 ☆★☆★
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度制御:±1℃ ◉ 高精度APC自動圧力制御システム:ガス3系統(Ar, H2, CH4) ◉ グラフェン作成用標準レシピ付属 ◉ コンパクトサイズ:405(W) x 415(D) x 280(H)mm ◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能 ・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続,PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力 ・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他 ◆Model. nanoCVD-8G◆ ・グラフェン用標準プログラム付属 ・高真空プロセス, 高精度プロセス圧力制御 ・ロータリーポンプ標準付属 ・ガス供給3系統(Ar, H2, CH4) ・試料加熱ステージ(高純度グラファイト)Max1100℃ ・Kタイプ熱電対
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★☆★☆【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
MiniLab薄膜実験装置は、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント、制御モジュールを組み込むことにより、セミカスタムメイドで無駄を省いたコンパクトな装置を構築することができます。モジュラー式コンポーネント・制御機器設計による豊富なバリエーション、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 【MiniLab薄膜実験装置 構成モジュール】 ◎ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、スパッタリング(SP)、CVD、ドライエッチング 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(026/090):590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ(070/080):1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ(125):1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または7”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、安全にも最大限配慮しております。チャンバー内部品調整、材料交換以外の全ての操作はPC/HMI画面で行います。
テルモセラ・ジャパン株式会社について
本社
Professional Thermal Engineering. 熱応用技術で日本の研究開発に貢献してまいります。
【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。





