◉ Hot stage "Substrate heating mechanism" Max 1800℃

◉ Hot stage "Substrate heating mechanism" Max 1800℃
◉ Substrate up and down mechanism, rotation, RF/DC bias, tilt ◉ Compatible sizes: φ2inch to φ4inch ◉ Operating atmosphere: O2, N2, Ar, Vac, etc. ◉ Maximum operating temperature: - Max 1800℃ (Gr, CCC, CCC/PG) - Max 1600℃ (Graphite + SiC coating, PBN coating) - Max 850℃ (NiCr) - Max 1000℃ (Kanthal)
31~39 item / All 39 items
-

スパッタリング装置『MiniLab-070』
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
last updated
-

真空蒸着装置『MiniLab-080』
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
last updated
-

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』
高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
last updated
-

真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
last updated
-

真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
last updated
-

真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
last updated
-

スパッタリング装置『MiniLab-026』
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
last updated
-

真空蒸着装置『MiniLab-026』
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
last updated
-

アニール炉 Mini-BENCH-prism Max2000℃
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
last updated